半導體製程高黏保護膜

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半導體製程高黏保護膜不殘膠型號厚度結構(基材/黏著層/離型膜) 透光度黏著力表面阻抗(膠面) 表面阻抗(膜面) CN10-1315 25/15/50 >89% 900±100g 1010 ~ 1012Ω/sq. >1012Ω/sq.

型號	厚度結構(基材/黏著層/離型膜)	透光度	黏著力	表面阻抗(膠面)	表面阻抗(膜面)
CN10-1315	25/15/50	>89%	900±100g	10¹⁰ ~ 10¹²Ω/sq.	>10¹²Ω/sq.