半導體製程高黏保護膜
半導體製程高黏保護膜
- 不殘膠
型號
厚度結構(基材/黏著層/離型膜)
透光度
黏著力
表面阻抗(膠面)
表面阻抗(膜面)
CN10-1315
25/15/50
>89%
900±100g
1010 ~ 1012Ω/sq.
>1012Ω/sq.
半導體製程高黏保護膜
- 不殘膠
| 型號 | 厚度結構(基材/黏著層/離型膜) | 透光度 | 黏著力 | 表面阻抗(膠面) | 表面阻抗(膜面) |
| CN10-1315 | 25/15/50 | >89% | 900±100g | 1010 ~ 1012Ω/sq. | >1012Ω/sq. |