OLED用保护膜

OLED制程用上下保护膜
  • 特点
  • 不残胶
  • 超低胶屑
  • 可耐受雷射切割
型号 厚度结构(基材/黏着层/离型膜) 透光度 黏着力 表面阻抗(胶面) 表面阻抗(膜面) ESD 排气性
TBD 75/75/50 >89% <2g 10 8 ~ 10 11 Ω/sq. <10 11 Ω/sq. <500V <2 sec
TBD 75/15/50 >89% >800g 10 8 ~ 10 11 Ω/sq. <10 11 Ω/sq. - -

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OLED用保护膜
OLED制程用上下保护膜 特点 不残胶 超低胶屑 可耐受雷射切割 型号 厚度结构(基材/黏着层/离型膜) 透光度 黏着力 表面阻抗(胶面) 表面阻抗(膜面) ESD 排气性 TBD 75/75/50 >89% <2g 10 8 ~ 10 11 Ω/sq. <10 11 ...
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